納米器件濺射儀

主要技術(shù)指標(biāo)：樣品尺寸為4寸硅片濺射室極限真空優(yōu)于1.210-6Pa，進(jìn)樣室(loadlock)真空優(yōu)于6.710-4Pa淀積薄膜厚度均勻性優(yōu)于3%襯底可加熱，溫度最高可達(dá)800oC 功能/應(yīng)用范...

復(fù)旦大學(xué)信息科學(xué)與工程學(xué)院

存儲(chǔ)薄膜濺射儀

　　主要技術(shù)指標(biāo)：極限真空：成膜室1.210-6Pa(loadlock)準(zhǔn)備室6.710-4Pa樣品尺寸：4寸(1片/次)可通3路氣體：Ar、N2、O2(50sccm)。可做普通濺射、共濺射和反應(yīng)濺射，可對樣...

復(fù)旦大學(xué)信息科學(xué)與工程學(xué)院

磁控濺射真空鍍膜機(jī)

功能用途： 應(yīng)用于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機(jī)殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)。 磁控濺射鍍膜機(jī)主要是使用直流(或中頻)磁控濺射，可...

河北科技大學(xué)

電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

主要技術(shù)指標(biāo)：電子槍功率3kW，本底真空10E-9Torr，6寸旋轉(zhuǎn)樣品托(可液氮冷卻)，坩堝5*2.24cc　　功能/應(yīng)用范圍：蒸鍍各種金屬薄膜　　主要測試和研究領(lǐng)域：電子/信息技...

復(fù)旦大學(xué)分析測試中心