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ETD-2000C 離子濺射/蒸碳一體機

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    • ETD-2000C型在ETD-2000型基礎上，增加了蒸碳附件。適用于分析型掃描電鏡對于不同分析需要的導電膜層制備。 配置參數如下： 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H） 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H） 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H） 樣品臺： 50mm(D) ，自動旋轉。 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar 微型真空氣閥： 可連接φ3mm軟管 可通入氣體： 多種 工作電壓： 0-1600V (DC)可調 濺射電流： 0-50mA 濺射定時： 1-9999S 蒸碳電流 0-10A(AC) 真空泵： 4L/S兩級機械旋轉泵（極限真空2×10-2mbar） 樣品表面離子清潔（選配）

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