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ETD-2000/3000 小型離子濺射儀

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    • ETD-2000/3000型離子濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設計而成的，最簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。 常規(guī)Au /Pt 金靶 主要特點： 1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監(jiān)控儀器狀態(tài)； 2. 濺射電流調整控制器、微型真空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得最佳鍍膜效果； 3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長期使用不會出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象； 4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經(jīng)久耐用； 5. 根據(jù)電場中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。 配置參數(shù)： 靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.12mm 真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm 樣品臺及工作距離：高配旋轉樣品臺，簡配固定樣品臺，高度手動調節(jié) 濺射面積： Ф50mm，最大放置 真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar 離子電流表： 最大電流：50mA(100mA) 定時器： 最長時間：900S 微型真空氣閥： 可連接φ3mm軟管 可通入氣體： 多種 最高電壓： -1600（-3000）DCV 機械泵： 2L/S （120L/min） 樣品表面離子清潔（選配）
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