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ETD-2000Ⅲ/3000Ⅲ 三靶小型離子濺射鍍膜機

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    • ETD-2000Ⅲ/3000Ⅲ 離子濺射儀:依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的,最簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。他相對于ETD-2000/3000的特別之處是在一個真空室內設計安裝了三個靶。旋轉樣品臺,可以依次在同一樣品上涂覆三種材料。適用于實驗室的各種復合膜樣品制備,及非導體材料實驗電極制作。 配置參數如下: 靶(上部電極):直徑:45mm,厚度:0.12mm 真空樣品室: 直徑:160mm,高:120mm 樣品臺高度調節:手動調節 濺射面積: Ф45mm,三區域 真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar 離子電流表: 最大電流:50mA(100mA) 定時器: 最長時間:900S 微型真空氣閥: 可連接φ3mm軟管 可通入氣體: 多種 最高電壓: -1600(-3000)DCV 機械泵: 2L/S 樣品表面離子清潔(選配) 意力博通還提供以下服務: 維修或改造所有類型任何品牌的掃描電子顯微鏡(SEM)、數字圖像和Si(Li)探測器。提供國產化能譜儀及改造X射線能譜儀等。
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