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SVS-V2000 濺射臺

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    • SVS-V2000 濺射臺(北京,上海,深圳,成都,西安均有分公司提供服務) 主要功能:   用于半導體工業生產和實驗室樣品制備時,電介質膜和其他半導體膜的蒸鍍工藝。 主要特點: 1 腔體尺寸:600mm-1200mm(或客戶化定制); 2 可單片或多片同時進行; 3 樣品臺可以行星/旋轉/直線等方式運動; 4 鍍膜速率等參考可控,可對樣品在蒸鍍過程中進行實時監測; 5 通過反應氣體來產生氧化物和氮化物等; 6 全自動的系統。

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