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深圳京都玉崎株式會社

檢測認證人脈交流通訊錄

LASERTEC MATRICS X810EX系列 掩模缺陷檢測儀

  • 這真不是您需要的產品？
  • 品　　牌：
  • LASERTEC
  • 主要規格：
  • 高感度、高速、低CoOを実現した、デザインノード20nm～7nｍ以降に対応できる半導體マスク検査システム
  • 用　　途：
  • ウェハファブにおけるフォトマスク、およびEUVマスクの受入検査、および定期的な品質確認検査 フォトマスク、EUVマスクの製造工程における出荷前検査
    • 特長 高感度、高速、低CoOを実現した、デザインノード20nm～7nｍ以降に対応できる半導體マスク検査システム 従來比2倍のハイパワー213nmQCWレーザー(>400mW)を搭載し、さらなる高感度化を達成 欠陥検出システムの高速化により、スキャン時間を28％削減（70分 ->50分 / 100mm x 100mmエリア） マスクのパターン寸法分布(CD uniformity)をマスク検査と同時に計測し、可視化する機能を搭載 フォトマスク用のRSP150、RSP200、およびEUVマスク用のDual Podに対応可能 OHT（Overhead Hoist Transport)と連動した全自動検査が可能 ステージ系と電気ラック系を一體化した設計により、コンパクトなフットプリントを達成 用途 ウェハファブにおけるフォトマスク、およびEUVマスクの受入検査、および定期的な品質確認検査 フォトマスク、EUVマスクの製造工程における出荷前検査 仕様 検査方式 マルチダイモード、シングルダイモード 検査スキャン時間 50分/100mmx100mmエリア 対応マスク Cr、MoSi、OMOG、EUV マスクサイズ 6インチ

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