<![CDATA[<style id="q0kez"></style>]]>
|
<![CDATA[<sub id="q0kez"><p id="q0kez"></p></sub>]]>
|
|
| |
|
|
|
|
|
檢測認證人脈交流通訊錄
LASERTEC 光掩模缺陷檢測系統 MATRICS X700系列
- 主要規格：
- hp45nmノード以降の最先端フォトマスクの欠陥検査?品質管理に最適な裝置 位相シフトマスク（EPSM、APSM）及びOPC（Optical Proximity Correction＝光近接効果補正）マスクに対応 光源に自社開発の213nm全固體レーザーを搭載し、高感度欠陥検出を達成 OHT自動搬送との接続等フレキシブルなインターフェイスが可能（オプション）
- 用 途：
- 「フォトマスク欠陥検査裝置 MATRICS X700シリーズ」は、レーザー?光関連産業の発展に大きく貢獻したことが評価され、一般社団法人レーザー學會より、レーザー學會産業賞「奨勵賞」を受賞いたしました。
- 特長
hp45nmノード以降の最先端フォトマスクの欠陥検査?品質管理に最適な裝置
位相シフトマスク（EPSM、APSM）及びOPC（Optical Proximity Correction＝光近接効果補正）マスクに対応
光源に自社開発の213nm全固體レーザーを搭載し、高感度欠陥検出を達成
OHT自動搬送との接続等フレキシブルなインターフェイスが可能（オプション）
「フォトマスク欠陥検査裝置 MATRICS X700シリーズ」は、レーザー?光関連産業の発展に大きく貢獻したことが評価され、一般社団法人レーザー學會より、レーザー學會産業賞「奨勵賞」を受賞いたしました。
用途
ウェハファブにおけるフォトマスクの受入検査および定期検査、ヘイズ検査
マスクショップにおける出荷前検査（ペリクル貼り付け後も検査可能）
仕様
検査方式 マルチダイモード（アレイモード含む）、 シングルダイモード 及びこれらの複合検査
検査光 3モード（透過光、反射光、透過/反射同時照明光）
検出感度 最高感度25nm ※検出感度は欠陥タイプ?検査方式により異なります
検査時間 105分 / 100mm2（ノーマルスキャン）
60分 / 100mm2（ファーストスキャン）
マスクサイズ 6025
深圳京都玉崎株式會社
- 地址：
- 江蘇蘇州市高新區竹園路7號中梁香緹商務廣場2棟1201室
