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應用領(lǐng)域:
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聯(lián)系人：劉引烽(66138052)?儀器簡介：? 紫外可見分光光度計可以對各種在紫外可見區(qū)產(chǎn)生吸收的無機元素和有機物質(zhì)進行定性分析和定量測定，包括各種有機發(fā)色團的分析...
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聯(lián)系人：李貴飛(66138069)?儀器簡介：? 差示掃描量熱儀，測量的是與材料內(nèi)部熱轉(zhuǎn)變相關(guān)的溫度、熱流的關(guān)系，應用范圍非常廣，特別是材料的研發(fā)、性能檢測與質(zhì)量控制...
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聯(lián)系人：李貴飛(66138069)?儀器簡介：? 熱重分析儀是一種利用熱重法檢測物質(zhì)溫度-質(zhì)量變化關(guān)系的儀器。熱重法是在程序控溫下，測量物質(zhì)的質(zhì)量隨溫度(或時間)的變化關(guān)...
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聯(lián)系人：劉坤(66138044)?儀器簡介：? 日本分光儀器，型號：JASCO-815?主要技術(shù)指標：? PTC-423S/15控溫；5mL氮氣流速；可測波長范圍：163-9...
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聯(lián)系人：劉坤(69982829)?儀器簡介：? 凝膠滲透色譜儀，美國，Waters公司，e2695型號?主要技術(shù)指標：? 主機：e2695；檢測器：2414示差折光檢...
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聯(lián)系人：賀英(69982822)、蔡計杰(15821647374)、施周(18817394789) 儀器簡介： 英國馬爾文儀器有限公司納米粒度、Zeta電位和絕對分子量分析儀ZetasizerNanoZS90 主...
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聯(lián)系人：唐可(13817224066) 儀器簡介： 原子力顯微鏡利用微懸臂感受和放大懸臂上尖細探針與受測樣品原子之間的作用力，從而達到檢測形貌的目的，具有原子...
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聯(lián)系人：唐可(13817224066) 儀器簡介： 多通道譜儀是核電子學與探測技術(shù)領(lǐng)域中一項重要測試手段，能測量核技術(shù)中的能量譜、時間譜、記數(shù)率、探測效率等性...
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聯(lián)系人：唐可(13817224066)?儀器簡介：? Keithley4200-SCS/F型半導體器件性能表征系統(tǒng)是一個可以提供精密電流源、電壓源和測試功能的測試系統(tǒng)，為半導體器件和測試...
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聯(lián)系人：唐可(13817224066) 儀器簡介： ACCENTHL5500PC型Hall效應測試系統(tǒng)由主機，霍爾系統(tǒng)控制器和溫度控制器等部分組成，能實現(xiàn)半導體及其薄膜材料的...
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聯(lián)系人：唐可(13817224066) 儀器簡介： 網(wǎng)絡分析儀直接測量有源或無源、可逆或不可逆的雙口和單口網(wǎng)絡的復數(shù)散射參數(shù)，并以掃頻方式給出各散射參數(shù)的幅度...
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聯(lián)系人：黃健(13916792678)、唐可(13817224066) 儀器簡介： JYH800UV紫外/可見共焦顯微拉曼譜儀利用入射光子與材料分子振動能級能量交換產(chǎn)生的拉曼效應...
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聯(lián)系人：俞圣雯(56332704)、程晉榮(56332704) 儀器簡介： 序號名稱型號...
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聯(lián)系人：蔣雪茵(13761269615) 儀器簡介： 用優(yōu)異的DDM(雙閃耀衍射光柵、雙單色器)技術(shù)實現(xiàn)了超低雜散光(0.0003%以下)和高光通量。 主要技...
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聯(lián)系人：蔣雪茵(13761269615) 儀器簡介： 該設(shè)備主要用于在真空條件下蒸發(fā)各種有機薄膜。 主要技術(shù)指標： 蒸發(fā)室尺寸...
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主要技術(shù)指標：儀器線性度準確性指標優(yōu)于0.07%T靈敏度高，峰-峰值信噪比大于50,000:1，精度可達0.09cm-1光譜波數(shù)范圍：7,800-15cm-1 功能/應用范圍：實驗室可檢測分...
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主要技術(shù)指標：>30%的高通光效率光譜測量范圍(200nm-1000nm)光譜分辨率(1cm-1)空間分辨率：橫向0.5微米，縱向2微米激發(fā)波長:：325nm、633nm、514.5nm以及785nm 功能/...
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主要技術(shù)指標：1、X射線光源部分X射線發(fā)生器部分和X光管。2、測角儀部分3、探測器部分化合物硅一維陣列探測器4平行光多層膜反射鏡5應用軟件：物相檢索軟件：數(shù)據(jù)庫：最新的PDF2卡片...
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主要技術(shù)指標：線寬線距1.5mm功? 能/應用范圍：射頻PCB制作? 主要測試和研究領(lǐng)域：電子/信息技術(shù)? 收費標準：其它收費方式? 儀器...
上海浦東新區(qū)
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主要技術(shù)指標：1.設(shè)備為防氯基、氟基腐蝕的防腐設(shè)備，支持氯基、氟基刻蝕氣體；2.極限真空度：刻蝕室≤2.0×10-4Pa(環(huán)境濕度≤55%，烘烤除氣)，進樣取樣室≤6.7×10-1Pa；3.抽速：...
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