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檢測認證人脈交流通訊錄

等離子去光阻機PA01/PA03B

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    • 功能 快速去除晶圓上之殘留光阻，達到晶圓表面潔凈，蝕刻率同業最高 特點 ‧處理均勻性佳 ‧離子能量低、不損傷基板 ‧沒有電極及基板的污染 ‧專利設計之特殊等離子電極 ‧高密度等離子源 ˇ等離子效率高、清潔效率高 ˇ可控制低的離子能量 ˇ結合化學反應性及物理撞擊性 ‧處理速度快、清潔效率高、可靠度高 ‧操作范圍廣 ‧可使用多種制程氣體 ‧全自動且容易操作 ‧設備穩定高，容易維護 ‧可依客戶需求作更改 應用產業 ‧殘余光阻去除 ‧藍膜殘膠去除 ‧PSS 來料清潔制程
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    梁雅娟

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