一、硅片清洗劑成分概念
晶圓清潔劑廣泛用于光伏，電子和其他行業中，以清潔硅晶圓； 硅晶片在運輸過程中將被污染，因此必須清潔硅晶片的表面。 通過清潔去除表面上的有機污染物，然后溶解氧化膜，因為氧化層被“污染并污染”，這可能導致外延缺陷； 去除顆粒，金屬等，并鈍化硅晶片的表面。

傳統的RCA清潔方法可以去除硅晶片表面上的金屬，有機物等，還可以去除小顆粒和其他污染物。

二、硅片清洗劑成分分析
該產品是高濃縮液，主要由鉀鹽，絡合劑和助洗劑組成。 它具有很強的清潔能力。 它在清潔硅材料方面具有非常出色的性能。 它對銅，鐵和其他金屬離子具有非常好的性能。 強大的剝離，絡合和清潔效果，測試后油漬的清潔率超過99％。
三、硅片清洗劑參考配方
主要由苛性堿，磷酸鹽，硅酸鹽，碳酸鹽組成
1.在整個清潔過程中，清潔人員不得直接觸摸硅片，并且必須戴上橡膠手套以免產生指紋。
2.為了確保清潔硅片的清潔度，在脫膠前控制噴霧漂洗時間超過30分鐘。
3.如果在使用過程中遇到臟膜，白點等問題，可以及時聯系技術服務人員。
4.產品在排放過程中僅需要簡單的處理，例如中和，絮凝，沉淀等。 該產品不含重金屬，磷酸和a。 對于殘渣較多的硅片，可以適當延長清洗時間
四、硅片清洗劑配方研發成分分析技術
成都中科溯源檢測采用光譜，色譜，質譜，能譜，熱譜等圖譜分析技術對產品或樣品組成成分、元素或原料等成分進行分析，得到產品的配方。
寄樣檢測：成都高新區天府三街1599號4棟1單元28層2814室熊彬君（Tel：152-0846-5276，QQ：1217396428）