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  • 金華二氧化硫腐蝕試驗(yàn)

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  • 對(duì)應(yīng)法規(guī):國(guó)標(biāo)
    CNAS認(rèn)可項(xiàng)目:是
  • 金華二氧化硫腐蝕試驗(yàn)
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    利用二氧化硫,在一定的溫度和相對(duì)的濕度的環(huán)境下對(duì)材料或產(chǎn)品進(jìn)行加速腐蝕,重現(xiàn)材料或產(chǎn)品在一定時(shí)間范圍內(nèi)所遭受的破壞程度。以及相似防護(hù)層的工藝質(zhì)量比較,用于確定零部件、電子元件、金屬材料、電工,電子等產(chǎn)品的防護(hù)層以及工業(yè)產(chǎn)品的在混合氣體中的腐蝕能力。
    參照標(biāo)準(zhǔn);

    本試驗(yàn)按照我國(guó)頒布國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T2423.51-2000電工電子產(chǎn)品(試驗(yàn)Ke)流動(dòng)混合氣體腐蝕試驗(yàn)方法?
    GB/9789-88《金屬和其他非有機(jī)覆蓋層通常凝露下的二氧化硫腐蝕試驗(yàn)》、
    國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO6988制作;?
    德國(guó)標(biāo)準(zhǔn)DIN?50018—《飽和環(huán)境下的二氧化硫腐蝕試驗(yàn)》
    GB2423.19-81電工電子產(chǎn)品(試驗(yàn)C)接觸點(diǎn)和連接件二氧化硫的試驗(yàn)方法
    GB2423.20-81電工電子產(chǎn)品(試驗(yàn)D)接觸點(diǎn)和連接件硫化氫的試驗(yàn)方法
    GB2423.33-89電工電子產(chǎn)品(試驗(yàn)Kca)高濃度二氧化硫試驗(yàn)方法
    以及國(guó)際上目前在使用的有關(guān)二氧化硫、硫化氫氣體腐蝕的其他標(biāo)準(zhǔn)。


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