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激光共聚焦顯微鏡 (confocal laser fluorescence microscopy)
主要技術指標：1、熒光共聚焦觀察，63X，100X油鏡，倒置2、全內反射成像 功能/應用范圍：功能：三維熒光成像、FILP，FRAP，FRET等應用范圍：納米材料、物理、化學、高分子、...
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主要技術指標：1.分辨率EnergyResolution:在MnKa線處測量分辨率≤127eVEnergyresolution≤127eV,atMnKaline2.超輕元素分辨率LightElementEnergyResolution:在FKa線處測量分...
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主要技術指標：分辨率：高真空成像，最佳工作距離0.8nm@30kV(STEM)1.0nm@15kV(TLD-SE)1.4nm@1kV(TLD-SE)，非減速模式3.5nm@100V(DBS)高真空分析，分析工作距離3.0nm@...
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主要技術指標：分辨率：一級分辨率3萬，二級分辨率1.4萬左右質量精度：2ppm掃描速度：100Hz 功能/應用范圍：TripleTOFTM5600+系統是快速評估藥物代謝穩定性、藥物在體內特征...
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場發射透射電子顯微鏡(Field Emission Transmission Electron Microscope)
主要技術指標：點分辨率：0.24nm,晶格分辨：0.102nm,信息分辨率：0.14nm,STEM分辨率：0.20nmEDS(能譜儀)能量分辨率：<127eV,元素范圍：Be-Cf 功能/應用范圍：納米材...
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電子束蒸發系統 (Electron Beam Evaporator)
主要技術指標：.真空<3X10-9托 功能/應用范圍：現有功能：a.三個室:進樣室、分析室、生長室。b.二個蒸發源、一個P型摻雜源和一路反應氣體c.反射高能電子衍射儀(RHEED)d.四...
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主要技術指標：兩級相加單色儀。不對稱的Czerny-Turner結構。針對紫外，可見和紅外不同區域可轉換的光柵。高精度sin-bar驅動。光柵水平轉動軸。3級/4水平狹縫，以獲得很高的雜散光濾除水平。...
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超高真空掃描隧道顯微鏡 (Ultra_high vacuum scanning tunneling microscope)
主要技術指標：分析室本底真空度優于3.0x10(-10)mb，制備室本底真空度優于6.0x10(-10)mb。樣品燈絲加熱溫度900oC，而直接通電流加熱溫度可高于1200oC。 功能/應用范...
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掃描探針顯微鏡 (scanning probe microscope)
主要技術指標：50x50x2.5μm掃描器，AFM橫向分辨率10-50nm，縱向分辨率〉1nm?！ 」δ?應用范圍：功能包括：AFM，CAFM和EFM主要可用于較大范圍(1-50um)的表面性貌的測試和簡...
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主要技術指標：通光效率大于30%。光譜范圍：200nm-1000nm，光譜分辨率：1cm^-1。空間分辨率：橫向0.5微米，縱向2微米。低波數：200cm^-1，100cm^-1，50cm^-1，10cm^-1供選擇。可選激光器：紫...
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拉曼熒光光譜儀 (Raman fluorescent Spectrograph)
主要技術指標：配有633nm激光，也可以引入其他波長激光器，鏡頭有10，40，50倍，可以進行熒光的測量和拉曼散射的測量 功能/應用范圍：測量熒光光譜，拉曼散射譜 ...
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角分辨聯合能譜儀 (angular resolved electron spectrometer)
主要技術指標：能量分辨率5mev，動量分辨率0.3度。真空5E-11mbar，可用多種氣體放電得到多種光子能量。 功能/應用范圍：測量材料的電子結構信息。 主要測試和...
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單頻可調諧鈦寶石激光系統 (pulse dye laser)
主要技術指標：Verdi-V10:10W532nmMBR110EL:>1.5w700nm-1000nmMBD-20020mw-500mw350nm-500nm?功能/應用范圍：超高分辨率拉曼光譜；可調諧紫外光源；光致發光；原子誘捕和冷...
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近場掃描光學顯微鏡 (Scan near-field optical microscopy)
主要技術指標：采用3DFlatscan掃描器，掃描范圍:XY方向70um、Z方向70um，另外有30um和10um掃描器選配，掃描步進：70um掃描器＜1nm、10um掃描器＜0.1nm，掃描器厚度7mm,重量75克；近場光學顯...
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熒光光譜儀 (Fluorescence spectroscope)
主要技術指標：焦距320mm孔徑f/4.1光譜范圍150~1500nm，用1200條/mm光柵；光柵尺寸68mmx68mm支座上最多可裝光柵數3平場尺寸30mmx12mm分辨率(用出口狹縫和光電倍增管時)0.06nm波...
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氧化物薄膜分子束外延設備 (oxide molecular beam exptaxy system)
主要技術指標：真空度10e-9mbar8個單質蒸發源單原子層精度控制氧化物薄膜生長襯底10X10mm 功能/應用范圍：小尺寸氧化物薄膜生長 技術特色：單原子層精度控制氧化...
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掃描探針顯微鏡 (Scanning Probe Microscopy)
主要技術指標：掃描范圍：10μm×10μm橫向分辨率：~5nm(電學測量模式為10~20nm)CAFM電流分辨率<5pA 功能/應用范圍：功能包括：AFM，EFM，CAFM，SKM，SCM等...
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超連續光纖激光器 (Supercontinuum fibre Lasers)
主要技術指標：參數值波長范圍460-2400nm最小功率密度>3mW/nm重復頻率(固定的)80MHz總電源脈沖寬度5ps總可見光功率(460-850nm)>1300mW總平均功率(460-1750nm)>4500mW輸出偏振去偏...
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主要技術指標：Avg.ModelockedPower:>300mW Bandwidth:>70nm CentralWavelength(nominal):800nm RepetitionRate:80MHz PulseWidth:<20fs Internal...
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