紙漿實(shí)驗(yàn)機(jī)

　　研究領(lǐng)域：生命科學(xué)(生物醫(yī)學(xué)、醫(yī)藥）

湖北工業(yè)大學(xué)

電感耦合等離子體反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

主要技術(shù)指標(biāo)蝕刻反應(yīng)室抽氣速率：真空度<5.0×10^-5Torr(15分鐘內(nèi))；蝕刻反應(yīng)室極限真空：8.0×10^-6Torr；裝載室抽氣速率：真空度<5.0×10^-2Torr(5分鐘內(nèi))；蝕...

中山大學(xué)

通用電化學(xué)系統(tǒng)

主要技術(shù)指標(biāo)滿度電流量程：2A到200nA輸出電壓:>±30V參考電極輸入阻抗：>10GΩ，電容50pF直流極化電壓范圍：±14.5V電流范圍：±2A，最大分辨率100...

中山大學(xué)

微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

主要技術(shù)指標(biāo)功率發(fā)生器2kW，2.45GHz；質(zhì)量流量計(jì)10,30,50sccm；系統(tǒng)真空度優(yōu)于1.0×10-6Torr；保壓12小時(shí)后真空度優(yōu)于1.0×10-1Pa主要功能最大沉底加熱溫度900℃...

中山大學(xué)

原位X-射線物質(zhì)結(jié)構(gòu)分析儀

　　主要技術(shù)指標(biāo)：X射線發(fā)生器：最大輸出功率：3kW，光管功率：2kW；最大管壓：50kV；最大管流：60mA。測(cè)角儀：采用光學(xué)編碼器技術(shù)；測(cè)角儀半徑：185~285mm可調(diào)；轉(zhuǎn)動(dòng)范圍：-110...

復(fù)旦大學(xué)先進(jìn)材料實(shí)驗(yàn)室

磁控濺射系統(tǒng)

　　主要技術(shù)指標(biāo)：真空度達(dá)1X10-6乇，襯底溫度可達(dá)100度直流濺射電源功率1000瓦　　功能/應(yīng)用范圍：有2個(gè)DC濺射靶，可以在真空狀態(tài)下濺射生成一類材料薄膜或多層不同薄膜，...

復(fù)旦大學(xué)材料科學(xué)系

雙束聚焦離子束系統(tǒng)

　　主要技術(shù)指標(biāo)：離子束：30kv分辨率7nm，加速電壓2-30kv。電子束：鎢燈絲電子槍　　功能/應(yīng)用范圍：材料微細(xì)加工及樣品制備。　　主要測(cè)試和研究領(lǐng)域：材料/珠寶首飾電子/信息...

復(fù)旦大學(xué)材料科學(xué)系

濺射鍍膜系統(tǒng)

　　主要技術(shù)指標(biāo)：1)Chambersize:600*750*620mm2)Ultimatepressure:8.0*10-7mbar3)3*4"Magnetrons(2*DC&1*rf)4)Co-sputteringprocess5)targetdiameter:100mm...

復(fù)旦大學(xué)信息科學(xué)與工程學(xué)院