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HI84100微電腦二氧化硫滴定分析儀

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  • 品　　牌：
  • 主要規(guī)格：
  • 用　　途：
    • HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將最先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。 • 基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體 • 性能優(yōu)良操作簡單，可直接顯示測量結(jié)果 • 人性化設計，具有穩(wěn)定標識和校準信息等顯示功能 • 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度 • 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用 • 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。 型號 HI 84100 滴定范圍 0 to 400 ppm of SO2 滴定方法 等電位氧化還原滴定法 滴定精度 讀數(shù)的5% 取樣量 50 mL ORP電極 HI 3148B 供電方式 220V/60 Hz；10VA 使用環(huán)境 0 to 50°C (32 to 122°F)；RH max 95% 尺寸重量 208 × 214 × 163 mm；2200 g

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