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西安測維光電技術有限公司

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Z軸測量顯微鏡

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  • 品  牌:
  • 主要規格:
  • CW2010—Z
  • 用  途:
  • 適用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片測試、半導體材料、線束加工蝕刻、液晶電池蓋、導線框架等產品的檢查觀察.也適用于經過磨拋、化學處理的工件表面的金相組織結構,幾何形狀進行顯微觀測。并且有三維的計量功能,其解析率達0.0005mm
    • CW2010—Z軸測量顯微鏡

      CW2010—Z軸測量顯微鏡以影像法為測量原理, 采用光學焦點位置檢測方式進行非接觸高低差測量。不僅可以對準目標影像, 還能觀察測量點的表面狀態,對高度,深度,高低差等進行測量。本儀器的各種鏡筒還具有明暗場,微分干涉,偏光的觀察功能。所以對極細微的間隙高低差,夾雜物、微米以下的突起、細微劃痕進行觀察。

      一、特點: 以影像法為測量原理, 采用光學焦點位置檢測方式進行非接觸高低差測量。不僅可以對準目標影像, 還能觀察測量點的表面狀態,對高度,深度,高低差等進行測量。本儀器的各種鏡筒還具有明暗場,微分干涉,偏光的觀察功能。所以對極細微的間隙高低差,夾雜物、微米以下的突起、細微劃痕進行觀察。
      二、 CW2010—Z軸測量顯微用途:適用于硅片、ICLCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片測試、半導體材料、線束加工蝕刻、液晶電池蓋、導線框架等產品的檢查觀察.也適用于經過磨拋、化學處理的工件表面的金相組織結構,幾何形狀進行顯微觀測。并且有三維的計量功能,其解析率達0.0005mm。因此是精密零件,集成電路,半導體芯片,光伏電池,光學材料等行業的必用儀器。
      三、 CW2010—Z軸測量顯微鏡主要規格
          2.1  鏡筒:鉸鏈式三目頭部   30°傾斜   270°旋轉
          2.2  高眼點平場目鏡: WF10X/22
          2.3  超長物距平場物鏡:PLL5X/0.12  WD 26.1, PLL10X/0.25 WD 20.2, PLL20X/0.40  WD 8.80, PLL50X/0.7  WD 3.68。
          2.4  右傾式內定位5孔轉換器
          2.5  落射式照明系統: 鹵素燈12V30W, 內置孔徑光闌,五孔轉盤濾色裝置(黃、綠、藍、磨砂)推拉式檢偏器和起偏器。
          2.6  調焦結構:粗微動同軸調焦, 帶鎖緊和限位裝置  粗動升降范圍30mm  微動格值  0.001mm*100格  數顯解析值 0.0005mm。
          2.7  光源:鹵素燈 亮度可調  6V30W(BD:12V50W)
          2.8  普通透射照明:可選
          2.9  Z軸升降范圍:手輪轉動130mm  允許最高工件 130mm
          X軸移動范圍  200mm  解析率:0.001mm  可解鎖手動快進
          Y 軸移動范圍  100mm  解析率:0.001mm  可解鎖手動快進
          測量精度(3+L/100)mm  (L: 被測長度)
          落射光測量誤差≤0.08% 
         3.0工作臺尺寸: 360mm*250mm   玻璃板尺寸: 225mm *175mm   工作臺承重: 30kg 
           3.1 儀器外型尺寸:380mm*550mm*830mm 
           3.2 凈重:100kg  毛重:120kg 

       

    西安測維光電技術有限公司

    王盈

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