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雙靶磁控濺射儀

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    • 結構 (點擊圖片查看詳細資料) 輸入電源 220VAC 50/60Hz, 單相 2000W (包括泵) 濺射電源 安裝有兩個濺射電源 直流(DC)電源:500W,針對于制作金屬膜 射頻(RF)電源:600W,可制作氧化物和金屬膜 同時可選配300W的射頻電源 磁控濺射頭 儀器中安裝有2個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水對靶材降溫 其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材 另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導電性靶材 靶材尺寸要求:金屬靶:直徑為50mm,zui大厚度1.5mm 陶瓷靶:直徑為50mm,zui大厚度6mm 儀器中標配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機) 也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭,訂購前需于本公司銷售人員 真空腔體 真空腔體:300 mm Dia x 300 mm h,采用不銹鋼制作 觀察窗口: 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易 載樣臺 載樣臺尺寸:140mm dia.(zui大可放置4"的基底) 載樣臺可以旋轉,其速度為:1 - 20 rpm (可調) 載樣臺zui高可加熱溫度為500℃,控溫精度為+/- 1.0 °C 氣體流量控制器 儀器內部安裝有2個質量流量計 量程為:0-200sccm 氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作 真空泵系統 配有一套分子泵系統(德國制作),采用一鍵式操作 薄膜測厚儀 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ? LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據 外形尺寸 L1300mm× W660mm× H1200mm 重量 160 kg 質保期 一年質保期,終生維護 https://www.chem17.com/st152911/erlist_1290255.html http://www.kjmti.com.cn/Products-24006809.html

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