檢測認證人脈交流通訊錄
LASERTEC 光掩模缺陷檢測系統 MATRICS X700 HiT系列
- 主要規格：
- デザインノード28nmの半導體デバイス用フォトマスクに対応可能 マスク検査時間を従來比で40%削減 獨自開発の全固體213nmQCWレーザー光源を搭載 OHT(Overhead Hoist Transport)と連動した全自動検査が可
- 用 途：
- フォトマスク製造工程における出荷前検査 ウェハファブにおけるフォトマスクの受入検査、および定期的な品質確認検査
- 特長
デザインノード28nmの半導體デバイス用フォトマスクに対応可能
マスク検査時間を従來比で40%削減
獨自開発の全固體213nmQCWレーザー光源を搭載
OHT(Overhead Hoist Transport)と連動した全自動検査が可能
電源?制御系統を本體に內蔵したオ―ルインワン設計により、コンパクト化
用途
フォトマスク製造工程における出荷前検査
ウェハファブにおけるフォトマスクの受入検査、および定期的な品質確認検査
仕様
検査方式 マルチダイモード、シングルダイモード
検査光 透過光、反射/透過光
検出感度 最高感度25 nm ※検出感度は、欠陥種別?検査方式により異なります
検査時間 65分 / 100mm2
マスクサイズ 6インチ
深圳京都玉崎株式會社
- 地址：
- 江蘇蘇州市高新區竹園路7號中梁香緹商務廣場2棟1201室
