檢測認證人脈交流通訊錄
- 激光刻膜機技術參數: 型號規格 SEF-G5 有效加工幅面 1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ） 最大運行速度 2000mm/s 重復定位精度 ±10μm 刻線直線度 ±10μm / 1000 mm 典型刻膜線寬 30～60μm 三線外沿總寬度 300～500μm 激光刻膜機選項和配件： 高標配，可根據需要移除不需要的部件。 激光刻膜機應用和市場： 非晶硅薄膜太陽電池的透明導電膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背電極膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜）
