主要技術(shù)指標(biāo)：樣品尺寸：2,4，6英寸基片，兼容加工小片和碎片；有加熱和冷卻裝置；下電極溫度范圍-150°C…+400°C；刻蝕氣體8路：HBr，SF6，C4F8, CHF3，BCl3, O2, N2, Ar。

功能/應(yīng)用范圍：反應(yīng)離子刻蝕機(jī)通過交變的電磁場在有反應(yīng)氣體的腔室內(nèi)激發(fā)等離子體，通過等離子體中的氣體離子和化學(xué)活性的自由基與材料表面的化學(xué)反應(yīng)和離子轟擊材料表面的物理過程刻蝕材料。反應(yīng)離子刻蝕機(jī)主要用于納米和微米器件的精細(xì)加工，用于硅基材料、介電材料刻蝕、III-Ⅴ族化合物以及金屬薄膜刻蝕。

主要測試和研究領(lǐng)域：儀器/儀表