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機(jī)構(gòu)登錄

主要技術(shù)指標(biāo):掃描范圍:10μm×10μm橫向分辨率:~ 5 nm (電學(xué)測量模式為10~20nm)CAFM電流分辨率< 5pA
功能/應(yīng)用范圍:功能包括:AFM,EFM,CAFM,SKM,SCM等主要應(yīng)用為:納米尺度的電學(xué)性質(zhì)測量
主要測試和研究領(lǐng)域:其他